黑板上的一层膜，对应光刻胶。
画完图后，将硅片浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。
用专业的角度来说，
ebl光刻机与紫光光刻机有一些不同。
首先，在机器顶部的电子枪区域，场发射电子源开始工作。
在强大的电场作用下，尖锐的钨针尖端释放出高能电子束。
这些高速电子束就像一支训练有素的微观部队，整齐划一地向下加速。
随后，电子束进入复杂的电磁透镜系统。
多组精密的电磁线圈产生磁场，就像一个个无形的透镜，将电子束逐步聚焦成极细的光点。
这束光点的直径可以细到纳米级别，目前工艺制程是工艺制程14nm。
1毫米等于1000000纳米（百万）。
而人类的一根头发丝的直径大约为0.04～0.05毫米，即4万到5万纳米。
在偏转系统中，精密的偏转线圈控制着电子束的运动轨迹。
通过计算机程序的精确控制，电子束能够在硅片表面进行精确定位和扫描，就像一支精确的纳米画笔。
在真空室底部，覆盖着光刻胶的硅片正静静等待着。
当高能电子束击中光刻胶表面时，发生剧烈的化学反应。
被电子束照射过的区域，光刻胶的分子结构发生改变，为后续的显影过程做好准备。
这就是ebl光刻机的曝光过程。
此时，
眼前这台造价昂贵的设备，正在以一种近乎完美的方式运转着，将公司芯片设计部门的设计图纸青龙8124转化为纳米级的实体结构。
它就像一位精确的画家，用电子为笔，在硅片上描绘出集成电路的蓝图。
随着加工的进行，实验室里回荡着设备运转的轻微嗡鸣声。
车载芯片青龙8124已经在计算机上验证与测试过了，郝强已经验收，完全没问题了。
如今，就差制造这一步。
以目前的运转情况来说，只能说是初步成功。
屏幕上也呈现了画图过程，但实际情况，那是肉眼看不到的，需要拿去测试。
ebl001最大产能为150wph，即处理一个硅片，只需要24秒左右，效率非常高。
当然，设计图越复杂，耗费时间就越长。
理论来说，ebl光刻机的曝光速度很慢，但郝强的技术商店就解决了这个问题。
没过多久，
第一片硅片曝光完成，接着继续第二个硅片曝光，直到曝光十个硅片。
“把后续的显影、封装等工艺完成后进行测试，测试结果出来后跟我说一下。”郝强跟组长交代，“目前看来，我们只是初步成功了，理论上研制ebl光刻机这条路是行得通的。”
大家听到董事长的话，实验室内瞬间爆发出一阵热烈的掌声与欢呼，科研人员们相互击掌，脸上洋溢着无法掩饰的喜悦与兴奋。
当然，大家也知道，这只是初步成功而已，还不能高兴过早。</p>